Visas kategorijas

Augstas vakuuma un pusvadītāju aprīkojuma kameru liešanas izstrādājumi: īpaši tīri nerūsējošie tēraudi (CF3M / 316L VIM), hēlija noplūdes blīvums (< 10−9 mbar⋅l/s) un elektropolierēšana

2026-10-12 21:03:16
Augstas vakuuma un pusvadītāju aprīkojuma kameru liešanas izstrādājumi: īpaši tīri nerūsējošie tēraudi (CF3M / 316L VIM), hēlija noplūdes blīvums (< 10−9 mbar⋅l/s) un elektropolierēšana

Meta apraksts: Pilnīgs tehniskais pamācība par augstas vakuuma un pusvadītāju aprīkojuma kameru liešanas izstrādājumiem. Iepazīstieties ar vakuuma indukcijas kausēšanu (VIM) iegūtiem zemkarbona nerūsējošajiem tēraudiem (ASTM A351 CF3M / 316L), knaibles malas CF-flanču CNC apstrādi, hēlija masas spektrometra noplūdes noteikšanu (<10−9 mbar⋅l/s) un īpaši tīru elektropolierēšanu (Ra <= 0,2 µm).


Izsmalcinātu pusvadītāju plākšņu ražošanā (plazmas ķīmiskā izēšana, ķīmiskās nogulsnēšanas ar tvaika fāzi CVD, atomslāņu nogulsnēšana ALD, jonu iestrādāšana), vakuuma metalurģijā un augstas enerģijas fizikas daļiņu paātrinātājos vakuuma kamerām un procesu kolektoriem darbojas pie Augsta vakuuma (HV: 10−3–10−7bar )un Ultraugsta vakuuma (UHV: 10−8–10−11bar )režīmiem.

Šādos ekstrēmos atomu līmeņa darba spiedienos standarta komerciālie metāla liešanas izstrādājumi ir pilnīgi nepiemēroti. Standarta liešanas izstrādājumi rada:

  • Apakšvirsmas mikroporainības gāzes uztveršanu : Mikroskopiskas sarukuma poras un adatas caurumi darbojas kā nepārtrauktas virtuālas noplūdes, uzkrājot atmosfēras gāzes un atbrīvojot mitrumu nedēļām ilgi, tādējādi sabojājot kameru pamatvakuumu.
  • Virsmas gāzu izdalīšanos un ogļūdeņražu piesārņojumu : Augsta virsmas raupjums ( R a >1.6µm ) nodrošina lielu patieso virsmas laukumu ūdens molekulu adsorbcijai.
  • Korozīvā procesa ķīmija : Fluora, hlora un broma bāzes plazmas traipīšanas gāzes ( NF 3,CF 4,Cl 2,HB r ) ātri ietekmē nemetāliskās sulfīdu/oksīdu ieslēgumus, izdalot piesārņojošās metāla daļiņas uz silīcija plāksnītēm.

Ultravakuuma kameru integritātes sasniegšanai nepieciešama specializēta augstas tīrības liešanas inženierzinātne: kausēšana Ultrazema oglekļa austēnītiskās nerūsējošās tērauda sakausējumi (ASTM A351 CF3M / liešanas 316L) caur Vakuumā indukcijas kausēšana (VIM) , sasniedzot nulles mikroporainību, izmantojot disciplinētu keramikas apvalka ielietošanu, veicot 5 ass CNC apstrādi ConFlat (CF) nazītveida malu savienojumiem un augstas vakuuma O-gredzena rievas ( R a ≤0.4µm ), pārbaudot absolūto hermētiskumu ar Hēlija masas spektrometra cietības noteikšanas metodi ( <10−9bar ⋅l/S ), un nodrošinot tīrās telpas sertificētu Spoguļa elektropolētu virsmu ( R a ≤0.2µm ).

Šis inženierijas pamācības dokuments sniedz detalizētu analīzi par vakuuma metalurģiju, nulles porainības liešanas konstrukciju, precīzo ļoti augstas vakuuma savienojumu CNC apstrādi, hēlija noplūdes noteikšanas protokoliem un tīrās telpas elektropolēšanas standartiem.

Precision cast ultra-clean stainless steel CF3M semiconductor vacuum chamber housing


1. Ļoti augstas vakuuma (UHV) fizika un kameru degradācijas mehānismi

                     ┌──────────────────────────────────────────────┐
                     │ Ultra-High Vacuum Environment (<10^-8 mbar)  │
                     └──────────────────────┬───────────────────────┘
                                            │
        ┌───────────────────────────────────┼───────────────────────────────────┐
        ▼                                   ▼                                   ▼
┌───────────────────────────────┐ ┌───────────────────────────────┐ ┌───────────────────────────────┐
│ Virtual Leakage (Outgassing)  │ │ Corrosive Plasma Attack       │ │ Micro-Channel Through-Leakage │
│ (Trapped air/moisture in      │ │ (Halogen etch chemistry       │ │ (Through-wall interconnected  │
│  subsurface casting pores)    │ │  attacking inclusion sites)   │ │  shrinkage leaking He gas)    │
└───────────────────────────────┘ └───────────────────────────────┘ └───────────────────────────────┘
Pusvadītāju vakuuma lietojumprogrammas Spiediena režīms un ķīmija Kritiskais kvalitātes prasījums Liešanas risinājums
CVD / ALD nogulsnēšanas kameru 10−6–10−9bar / silāns, metālu organiskie savienojumi Nulle virtuālo noplūžu; izplūdes ātrums <10−10bar ⋅l/S ⋅cm2 VIM liekta zemaklūda tērauda nerūsējošā tērauda (ASTM A351 CF3M / 1.4404)
Plazmas sausās ētālās procesa bļodas 10−3–10−6bar /CF 4,NF 3,Cl 2plazma Nulle daļiņu piesārņojums, ķīmiskā pasivācija Augstas tīrības CF3M + ļoti gluda elektropolēšana ( R a ≤0.2µm )
Augstas vakuuma sūkņu kolektori Turbomolekulārā sūkņa savienojums Naža malas CF flanča blīvējuma noturēšana, izturība pret hēliju Ieguldījumu liešanas CF3 / CF8M ar 100 % hēlija noplūdes sertifikātu
Vakuuma termiskās apstrādes krāsnis 10−5–10−7bar /850°C– 1,150°C Augsta termiskā stabilitāte, zema termiskā desorbcija Lietā austēnīta karstumizturīgā sakausējuma (316L / HK40)

2. Vakuummetālurģija un ļoti tīra kausēšanas metode (VIM / AOD)

Lai novērstu iekšējos gāzes dobumus un nemetāliskās iekļaušanas, kas rada virtuālos noplūdes punktus, vakuumkameru liešanai tiek izmantots Vakuumā indukcijas kausēšana (VIM) vai Argona un skābekļa dekarbonizācija (AOD) :

Ķīmiskais elements ASTM A351 CF3M standarts Pengxin UHV pusvadītāju klases Kritiska vakuumtehnoloģijas funkcija
Ogļūdeņradis (C) ≤0.030% ≤0.020%(Ultrazems oglekļa saturs) Novērš hroma karbīdu izdalīšanos graudu robežās; novērš starpgraudu ķīmisko iedarbību
Hroms (Cr) 17.0–21.0% 18.5–20.0% Veido blīvu, pašatjaunojošos Cr 2O3pasīvo slāni, kas izturīgs pret halogēnu plazmas ķīmiskajām reakcijām
Nikela (Ni) 9.0–13.0% 11.5–13.0%(Augsts niķeļa saturs) Garantē stabila pilnīgi austenītiska FCC matricu; samazina magnētisko caurlaidību ( μ r <1.02)
Molibdena (Mo) 2.0–3.0% 2.5–2.8% Augsta pretestība hlorīdu un halīdu izraisinātai caurumveida korozijai plazmas tīrīšanas ciklos
Sērs un fosfors S ,P≤0.040% S ,P≤0.008%(ultra-tīrs) Kritiski : novērš nemetāliskās Mn S vadītājvirknes, kas rada mikroskopiskas vakuuma noplūdes ceļus
Izšķīdušās gāzes Nav norādīts [H]≤1.0pPM ,  [O]≤20pPM ,  [N]≤50pPM Novērš masveida gāzes izdalīšanos ultravakuumā, veicot vakuuma izveides ciklus

3. Bezporainas investīcijas un keramiskās apvalka liešana

Pusvadītāju vakuumkamerām raksturīgi sarežģīti iekšējie procesa gāzu sadalīšanas kanāli, ūdens dzesēšanas jakas un vairāki optiskie skata logi:

┌─────────────────────────────────────────────────────────────┐
│ 1. Precision Multi-Piece Aluminum Tooling & Wax Injection   │
│    • High-stability wax patterns with zero sink marks       │
├─────────────────────────────────────────────────────────────┤
│ 2. Automated Multi-Layer Fused Silica Ceramic Shell Molding │
│    • Fine zircon flour primary face coat (Ra 1.6 µm finish) │
│    • Zero sand inclusion or ceramic spalling in mold cavity │
├─────────────────────────────────────────────────────────────┤
│ 3. Vacuum Induction Pouring with Filtered Bottom Ingate     │
│    • Melt poured directly under protective argon atmosphere │
│    • Directional progressive solidification from base up    │
├─────────────────────────────────────────────────────────────┤
│ 4. 100% Hot Isostatic Pressing (HIP Processing - Optional)  │
│    • $1,150 °C$ at $1,000\text{ bar}$ Argon pressure; collapses all  │
│      internal micro-voids, achieving 100% theoretical density│
└─────────────────────────────────────────────────────────────┘

4. 5 ass CNC precīzā ultravakuumflanču apstrāde

5-axis CNC machining center precision milling knife-edge CF flanges of vacuum chamber

Ultravakuumblīves balstās uz precīzu metāliska vara blīves deformāciju vai elastomēru Viton/FFKM O-formas blīvējumu:

        ┌───────────────────────────────────────────────────────┐
        │ 1. High-Vacuum Solution Annealing (1,100 °C)          │
        │ • Rapid water quench; eliminates all residual stress  │
        └──────────────────────────┬────────────────────────────┘
                                   │
                                   ▼
        ┌───────────────────────────────────────────────────────┐
        │ 2. 5-Axis CNC High-Speed Milling Center Operations    │
        │ • Precision machining of chamber internal cavities    │
        │ • Coaxiality of opposing viewport axes $\le 0.015\text{ mm}$│
        └──────────────────────────┬────────────────────────────┘
                                   │
                                   ▼
        ┌───────────────────────────────────────────────────────┐
        │ 3. ConFlat (CF) Knife-Edge & O-Ring Groove Micro-Turn │
        │ • CF flange knife-edge angle ($70^\circ \pm 0.5^\circ$) with  │
        │   sharp peak radius ($R \le 0.10\text{ mm}$)          │
        │ • O-ring dovetail groove surface roughness $Ra \le 0.4\text{ µm}$│
        └───────────────────────────────────────────────────────┘

5. Tīrā telpā veiktā ķīmiskā skalošana, pasīvācija un elektropolīrēšana (EP)

Close-up macro view looking into pristine mirror-like electro-polished internal bore of vacuum chamber

Lai sasniegtu ļoti zemu izdalīšanās ātrumu, liešanas kameru virsmas tiek pakļautas precīzai daudzposmu elektroķīmiskai apstrādei:

Machined Chamber Surface (Ra 0.8–1.6 µm)
                   │
                   ▼
┌────────────────────────────────────────────────────────┐
│ 1. Ultrasonic Degreasing & Solvent Cleaning            │
│    (Removes all CNC cutting oils and particulate matter)
└──────────────────┬─────────────────────────────────────┘
                   │
                   ▼
┌────────────────────────────────────────────────────────┐
│ 2. Nitric-Hydrofluoric Acid Pickling & Passivation     │
│    (ASTM A380 / A967: Removes free iron and oxide scale)
└──────────────────┬─────────────────────────────────────┘
                   │
                   ▼
┌────────────────────────────────────────────────────────┐
│ 3. Precision Anodic Electro-Polishing (EP) (ASTM B912) │
│    • Controlled electrochemical dissolution of peaks   │
│    • Delivers true mirror finish ($Ra \le 0.20\text{ µm}$)  │
│    • Maximizes $Cr/Fe$ surface atomic ratio ($\ge 2.0$)│
└──────────────────┬─────────────────────────────────────┘
                   │
                   ▼
┌────────────────────────────────────────────────────────┐
│ 4. Class 1,000 Cleanroom Ultra-Pure Water (UPW) Rinse  │
│    • 18 MΩ·cm deionized water rinse + clean dry pack   │
└────────────────────────────────────────────────────────┘

6. Helija masu spektrometra vakuumblīvuma pārbaudes standarti

Specialized helium mass spectrometer leak detection testing of vacuum chamber with sniffing probe

Katrs vakuumliešanas izstrādājums tiek pārbaudīts ar 100 % helija blīvuma pārbaudi saskaņā ar ASTM E499 / ASME Sec V Art 10 :

Testēšanas Metode Uzstādīšana un standarti Jutība un pieņemamības slieksnis
Helija vakuuma ožamās pārbaudes tests Spiedienā ar 100 % He ( 2.0stienis ); ožamā sonda skenē Noplūdes ātrums <1.0×10−7bar ⋅l/S ; lokalizētu noplūžu nav
Helija cietās vakuuma vāka pārbaudes tests Kamera izvakuēta līdz <10−4bar ; helija apvalks Globālais noplūdes ātrums <1.0×10−9bar ⋅l/S
Izgāzīšanās ātruma verifikācija Termiskās desorbcijas spektroskopija (TDS) Izgāzīšanās ātrums ≤1.0×10−10bar ⋅l/S ⋅cm2pēc 150°C apstrāde siltumā
Radiogrāfiskā izmeklēšana (RT) ASTM E446 līmenis 1 (bez defektiem) 100% rentgenogrāfiskā skenēšana visās kameru sienās un flanču savienojumos
Virsmas raupjuma profilometrija Optiskais 3D bezkontakta profilometrs Elektropolierētas iekšējās virsmas R a ≤0.20µm /R z ≤1.0µm

7. Pusvadītāju vakuumlietāšana Dandongas pilsētā, Pengxin Machinery Co., Ltd.

Augstvakuumu un pusvadītāju klases kameru liešanas ražošanai nepieciešama ļoti tīra kausēšana, precīzā investīciju liešana, 5 ass CNC apstrādes centri un iekšējās hēlija noplūdes pārbaudes iespējas.

Dandong City Pengxin Machinery Co., Ltd. piegādā pilnībā sertificētus, gatavus lietošanai vakuumu un pusvadītāju aprīkojuma kameru liešanas izstrādājumus:

  • Ultratīrs nerūsējošā tērauda metālurģijas process : Sertificēta ražošana vakuumā kausētiem ASTM A351 CF3M, CF3, CF8M (liešanas 316L/304L) sakausējumiem ar ultrazemu oglekļa saturu ( C≤0.020%) un sērs ( S ≤0.008%).
  • Precīza ielietne un apvalka liešana : Augstas precizitātes keramikas apvalka liešana, kas nodrošina gandrīz galīgās formas ar gludām liešanas virsmām un nulles virtuālo mikroporozitāti.
  • Augstas precizitātes 5 assu CNC flanču apstrāde : Specializēti klimatizēti CNC apstrādes centri, kas nodrošina precīzas CF asis un O gredzena rievas ietvaros ±0.010mm .
  • Sertificēta helija masas spektrometra pārbaude : Iekšējās Pfeiffer un Inficon helija vakuuma ciešuma pārbaudes sistēmas, kas sertificē ciešuma ātrumu līdz <1.0×10−9bar ⋅l/S .
  • Pilna kvalitātes dokumentācija : ISO 9001 sertificēts, nodrošinot pilnas EN 10204 3.1 materiālu testu sertifikācijas, 100% helija ciešuma pārbaudes diagrammas, virsmas raupjuma profilometra skenējumus un tīrās telpas iepakojumu.

Modern semiconductor cleanroom wafer fabrication facility with vacuum process chambers


Secinājums

Augstvakuumam un pusvadītāju aprīkojuma kamerām paredzētie liešanas izstrādājumi darbojas atomjutīgajā augstās tehnoloģijas ražošanas robežā. Virtuālo izgāzību noplūžu, caur sienām ejotiem mikrokanāliem un daļiņu piesārņojumu novēršanai nepieciešama ārkārtīgi tīra zemaklāra nerūsējošā tērauda metalurģija (CF3M / 316L VIM), nulles porainības investīciju liešana, precīza CNC CF-flanču nazīšu malu apstrāde, elektropolīrs ( R a ≤0.2µm ) un verificēta helija masas spektrometra noplūdes blīvums ( <10−9bar ⋅l/S ).

Sadarbība ar pieredzētu, integrētu vakuumliešanas un precīzās apstrādes spēku nodrošina, ka jūsu pusvadītāju un vakuumprocesa kameras ātrāk sasūc vakuumu, uztur dziļāku vakuumu un nodrošina nulles defektu dēļu apstrādes iznākumu.

Sazinieties ar Dandong City Pengxin Machinery Co., Ltd., lai nosūtītu savus vakuumkameru rasējumus vai pieprasītu helija noplūdes sertifikācijas datus.

Dandong City Pengxin Machinery Co., Ltd. — smagie liešanas izstrādājumi un precīzā apstrāde kopš 1958. gada.