Pob categori

Castiadau cymylau ar gyfer cyfarpar gofod-golchi a semicondwr: steelen gwyn o uchel glesni (CF3M / 316L VIM), cau rhag gollti heliwm ( < 10 − 9 mbar ⋅ l/s <10 −9 mbar⋅l/s), a pholiru electronig

2026-10-12 21:03:16
Castiadau cymylau ar gyfer cyfarpar gofod-golchi a semicondwr: steelen gwyn o uchel glesni (CF3M / 316L VIM), cau rhag gollti heliwm ( < 10 − 9 mbar ⋅ l/s <10 −9 mbar⋅l/s), a pholiru electronig

Meta Description: Canllaw technegol llawn o castiadau cymylau ar gyfer cyfarpar gofod-golchi a semicondwr. Ymchwiliwch i steelen gwyn is-garbon sydd wedi ei ddrysi yn y gofod-golchi (VIM) (ASTM A351 CF3M / 316L), peiriannu CNC o flansiau CF â ymyl cleddyf, adnabod gollti gan spetcromedr mas heliwm (<10^-9 mbar*l/s), a pholiru electronig uwch-glesni (Ra <=0.2 µm).


Mewn cynhyrchu tafliedd semicondwyrs uwch (bwrw plasma, gosodadur parau cemegol CVD, gosodadur haen atomig ALD, mewnblannu ion), metallwrgia gwaelod, a cyflymderau corffau ffiseg uchel-energi, mae camriau gwaelod a manifoldeu proses yn gweithio dan Gwaelod Uchel (HV: 10−3–10−7mbar )a Gwaelod Rhag-Uchel (UHV: 10−8–10−11mbar ).

Dan y pwysau gweithredu graddfa atomig rhagorol hyn, nid yw castiadau metel masnachol arferol yn derbynadwy o gwbl. Mae castiadau arferol yn dioddef o:

  • Trapiadau Nwy Microdanwyllt Isarwyneb : Mae porau crynhoi microsgopig a phorau pin yn weithio fel gollwng rhaglennol parhaus, yn dal nwy’r awyr ac yn dadddanu llychlyn o wythnosau, gan dinistrio gwaelod camrau.
  • Allgolliad arwyneb a llidiant hydrocarbon : Rhagoriad uchel ar wyneb ( R a >1.6µm ) yn darparu arwyneb gwirioneddol masif ar gyfer adferiad moleciwlau dŵr.
  • Ymosodiad Cemegol Corwysyddol : Nwyon etcho mewn plasmas sydd â sylfaen o ffliwôr, chlôr a bromin ( NF 3,CF 4,Cl 2,HB r ) yn ymosod yn gyflym ar gynhwysion sulfidig/ocsidig nad ydynt yn metalleg, gan ryddhau partegau metel sydd yn tanio ar wahanoddiad silicon.

Gweithredu cyfanrwydd tyllau gwrthfryniol uchel gofaint yn gofyn am peirianneg casgliad uchel-burdeb arbenigol: tânio Steilien awstinitig is-garbon uwch-isel (ASTM A351 CF3M / Cast 316L) trwy Tawelu Annibynol Gwacwmm (VIM) , cyrraedd sero porositat micro drwy gwesti cynllun ceramig rhaglennu, gweithredu peiriannu CNC 5-echelin o Cylchlyfrau ConFlat (CF) â Phrydau Cledd a Grofau O-Ring Uchel-Gwag ( R a ≤0.4µm ), yn gwirio cywirder cau hermetig absoliwt trwy Adnabod Gollwng Masa Helium ( <10−9mbar ⋅l/s ), ac yn darparu gorffeniad electro-polished ysbryd ( Gorffeniadau Electro-Polished Ysbryd ( R a ≤0.2µm ).

Mae'r arweiniad peirianneg hwn yn cynnig dadansoddiad llawn o feithredu gwag, cynllunio castio heb boriau, peiriannu CNC cylchlyfrau UHV â phrecisiwn, protocolau adnabod gollwng heliwm, a safonau polio electro llynedd.

Precision cast ultra-clean stainless steel CF3M semiconductor vacuum chamber housing


1. Ffiseg Uchel-Gwag (UHV) & Mecanweithiau Diraddiad Camdwyr

                     ┌──────────────────────────────────────────────┐
                     │ Ultra-High Vacuum Environment (<10^-8 mbar)  │
                     └──────────────────────┬───────────────────────┘
                                            │
        ┌───────────────────────────────────┼───────────────────────────────────┐
        ▼                                   ▼                                   ▼
┌───────────────────────────────┐ ┌───────────────────────────────┐ ┌───────────────────────────────┐
│ Virtual Leakage (Outgassing)  │ │ Corrosive Plasma Attack       │ │ Micro-Channel Through-Leakage │
│ (Trapped air/moisture in      │ │ (Halogen etch chemistry       │ │ (Through-wall interconnected  │
│  subsurface casting pores)    │ │  attacking inclusion sites)   │ │  shrinkage leaking He gas)    │
└───────────────────────────────┘ └───────────────────────────────┘ └───────────────────────────────┘
Ceisiad Semicondwr Gwag Rheoli Pwysedd & Cemeg Gofyniad Ansawdd Critigol Datrys i gwestai
Camerâu Gwaredu CVD / ALD 10−6–10−9mbar / Silan, Organigau Metel Dim gollyngiadau ffug; cyfradd allwyrchiad <10−10mbar ⋅l/s ⋅cm2 Haearn Crin Castio VIM Is-garbon (ASTM A351 CF3M / 1.4404)
Bwlchau Prosesu Etch Plasma Sych 10−3–10−6mbar /CF 4,NF 3,Cl 2plasma Dim gontaminasi rhannau, pasifadu cemegol CF3M o uchelganiad + Poli-Electro Rhagorol ( R a ≤0.2µm )
Manifoldiau tynnu gwaelod-gwag Rhyngwyneb bomf turbomoleciwlâr Cadwraeth sêl llafn CF â ymyl clwstwr, cau héliwm Castio CF3 / CF8M â chertiffiad 100% lliwgiad héliwm
Cylchenni ollwng gwaelod-gwag 10−5–10−7mbar /850°C– 1,150°C Seithiant thermaidd uchel, dadddiffru thermaidd isel Alwriaeth castio austenig yn resistio chwyddo (316L / HK40)

2. Metallwriaeth Gwag a Protocliau Tymhau Ultra-Hawl (VIM / AOD)

I eithrio pocedau gwaith mewnol a chynhwysion anfeirnïaidd sydd yn cynhyrchu gollwyr ffug, caiff castiadau camrau gwag eu tympio Tawelu Annibynol Gwacwmm (VIM) neu Dad-carbonadur Argon Ocsigen (AOD) :

Elfennau Cemegol Safon ASTM A351 CF3M Gradd Semicondwydd Pengxin UHV Swyddogaeth Peirianneg Gwag Hanfodol
Carbon (C) ≤0.030% ≤0.020%(Isel iawn o garbon) Yn atal preclipiad carbide crôm ar y ffiniau rhwng y gronynnau; yn atal ymosodiad etch rhwng y gronynnau
Chromium (Cr) 17.0–21.0% 18.5–20.0% Yn ffurfio haen pasif dwys, hunan-gofalu Cr 2O3sydd yn resistas i chemegau plasma halogen
Niciwl (Ni) 9.0–13.0% 11.5–13.0%(Nikel Uchel) Yn sicrhau matrix FCC awstinitig llawn sefydlog; yn gwasgu hygrediad magnetig ( μ r <1.02)
Molybdenwm (Mo) 2.0–3.0% 2.5–2.8% Gwrthdystiad uchel i goriad corffni chlôr a halid yn y cylchoedd clirio plasma
Sŵfr ac Fosfforws S ,P≤0.040% S ,P≤0.008%(Ultrachlir) Pwysig : Mae'n dileu llinellau anfeithlynol Mn S sydd yn creu llwybrau colli gwaelod-golwg yn y gofod gwag
Niwtrau sydd wedi eu disgyrchu Ddim wedi'i nodi [H]≤1.0pPM ,  [O]≤20pPM ,  [N]≤50pPM Mae'n dileu dadddiffru nwy swmp o bryd y cylchau gweithredu gwaelod-uchel iawn

3. Castio Buddugoliaeth a Chorff Ceramig heb bobl

Mae cymylau gofod semicondwr yn cynnwys sianeli dosbarthu nwy broses o fewnol cymhleth, sgortiau o ddŵr i oeri, a lluosog o ffenestri olwg optegol:

┌─────────────────────────────────────────────────────────────┐
│ 1. Precision Multi-Piece Aluminum Tooling & Wax Injection   │
│    • High-stability wax patterns with zero sink marks       │
├─────────────────────────────────────────────────────────────┤
│ 2. Automated Multi-Layer Fused Silica Ceramic Shell Molding │
│    • Fine zircon flour primary face coat (Ra 1.6 µm finish) │
│    • Zero sand inclusion or ceramic spalling in mold cavity │
├─────────────────────────────────────────────────────────────┤
│ 3. Vacuum Induction Pouring with Filtered Bottom Ingate     │
│    • Melt poured directly under protective argon atmosphere │
│    • Directional progressive solidification from base up    │
├─────────────────────────────────────────────────────────────┤
│ 4. 100% Hot Isostatic Pressing (HIP Processing - Optional)  │
│    • $1,150 °C$ at $1,000\text{ bar}$ Argon pressure; collapses all  │
│      internal micro-voids, achieving 100% theoretical density│
└─────────────────────────────────────────────────────────────┘

4. Peiriant CNC 5-Esgorn i Gylchdroi Flangiau UHV â Phrecisiwn

5-axis CNC machining center precision milling knife-edge CF flanges of vacuum chamber

Mae torgochi gofod uwch-uchel yn dibynio ar ddefisio precisiwn gasket copr metallig neu o-rings elastomerig Viton/FFKM:

        ┌───────────────────────────────────────────────────────┐
        │ 1. High-Vacuum Solution Annealing (1,100 °C)          │
        │ • Rapid water quench; eliminates all residual stress  │
        └──────────────────────────┬────────────────────────────┘
                                   │
                                   ▼
        ┌───────────────────────────────────────────────────────┐
        │ 2. 5-Axis CNC High-Speed Milling Center Operations    │
        │ • Precision machining of chamber internal cavities    │
        │ • Coaxiality of opposing viewport axes $\le 0.015\text{ mm}$│
        └──────────────────────────┬────────────────────────────┘
                                   │
                                   ▼
        ┌───────────────────────────────────────────────────────┐
        │ 3. ConFlat (CF) Knife-Edge & O-Ring Groove Micro-Turn │
        │ • CF flange knife-edge angle ($70^\circ \pm 0.5^\circ$) with  │
        │   sharp peak radius ($R \le 0.10\text{ mm}$)          │
        │ • O-ring dovetail groove surface roughness $Ra \le 0.4\text{ µm}$│
        └───────────────────────────────────────────────────────┘

5. Pwll lwcus, pasiwadu a pholïo elecrtro (EP)

Close-up macro view looking into pristine mirror-like electro-polished internal bore of vacuum chamber

I gyrraedd cyfraddau allgofnodi isaf-uchel, mae arwynebau cymylau casted yn mynd trwy gorffori elecrtro-cemegol aml-lefel â phrecisiwn:

Machined Chamber Surface (Ra 0.8–1.6 µm)
                   │
                   ▼
┌────────────────────────────────────────────────────────┐
│ 1. Ultrasonic Degreasing & Solvent Cleaning            │
│    (Removes all CNC cutting oils and particulate matter)
└──────────────────┬─────────────────────────────────────┘
                   │
                   ▼
┌────────────────────────────────────────────────────────┐
│ 2. Nitric-Hydrofluoric Acid Pickling & Passivation     │
│    (ASTM A380 / A967: Removes free iron and oxide scale)
└──────────────────┬─────────────────────────────────────┘
                   │
                   ▼
┌────────────────────────────────────────────────────────┐
│ 3. Precision Anodic Electro-Polishing (EP) (ASTM B912) │
│    • Controlled electrochemical dissolution of peaks   │
│    • Delivers true mirror finish ($Ra \le 0.20\text{ µm}$)  │
│    • Maximizes $Cr/Fe$ surface atomic ratio ($\ge 2.0$)│
└──────────────────┬─────────────────────────────────────┘
                   │
                   ▼
┌────────────────────────────────────────────────────────┐
│ 4. Class 1,000 Cleanroom Ultra-Pure Water (UPW) Rinse  │
│    • 18 MΩ·cm deionized water rinse + clean dry pack   │
└────────────────────────────────────────────────────────┘

6. Safonau Profi Llithro Gofod â Sbectromedr Massau Helium

Specialized helium mass spectrometer leak detection testing of vacuum chamber with sniffing probe

Mae pob castio gofod yn mynd trwy wirio llithro helium 100% yn ôl ASTM E499 / ASME Sec V Art 10 :

Dull Prawf Gosod a Safonol Cynhwysedd a Thresgamlwyr Derbyn
Prawf Heliwm dan Gwifrau Sgriwio Gwasgedig â 100% He ( 2.0bAR ); sgrîwio â phrobiad sghriwio Cyfradd Llidiad <1.0×10−7mbar ⋅l/s ; dim gollwyr lleoliadol
Prawf Heliwm dan Wifrau Crys o’r Cylch Tynnir y cymylch i <10−4mbar ; clydwr heliwm Cyfradd Gollwng Byd-eang <1.0×10−9mbar ⋅l/s
Cadarnhad Cyfradd Allgolli Spectroskopi Dadddisglwydd Thermol (TDS) Cyfradd allgolli ≤1.0×10−10mbar ⋅l/s ⋅cm2ar ôl 150°C popty
Archwiliad radiograffig (RT) ASTM E446 Lefel 1 (Dim Diffygion) sganiad rhagorol 100% ar bob wal o'r chamber a'r croesiadau â'r flanch
Profilometreg Gwaelodwydd Arwyneb Profilomedr Optegol 3D heb gysylltiad Arwynebau mewnol wedi eu polisio electro- R a ≤0.20µm /R z ≤1.0µm

7. Castio Gwaelodwg Semicondwr yn Dandong City Pengxin Machinery Co., Ltd.

Mae cynhyrchu castiadau chamber gwaelodwg uchel a chyflwr semicondwr yn gofyn am gweithdrefnau tân uwchlan, adeiladau castio buddsoddiad manwl, canolfannau peiriannu CNC 5-echelin, a phrofi lliw heliwm mewn tŷ.

Dandong City Pengxin Machinery Co., Ltd. yn cyflwyno castiadau chamber i gynnyrch gwaelodwg a semicondwr paratoiad llawn:

  • Metallwrgiaeth Arianllyd Uchel : Cynhyrchu ASTM A351 CF3M, CF3, CF8M (Cast 316L/304L) sydd wedi'u dilysu, sydd wedi'u tanio mewn gwaelodwg, â charbon isaf ( C≤0.020%) a Sylffwr ( S ≤0.008%).
  • Castio Cywirdeb Uchel a Chastio Cylch : Castio cylch ceramig uchel-gywirdeb sy’n darparu siapiau bron yn wedi eu gwneud â chynnyrch castio llifog a dim porositad micro-ddynaid dychmygol.
  • Peiriannu Flang CNC 5-Esgwydd Uchel-Gywirdeb : Canolfannau peiriannu CNC penodedig sydd dan reoli hinsawdd, sy’n darparu ymylon colyn CF a grofion O-ring o fewn cywirdeb uchel. ±0.010mm .
  • Profiad Spectromedr Masse Helium Dilyniadol : Systemau profi gollyngiad rhagorol helium dan wagwr Pfeiffer a Inficon sydd o fewn y gweithdy, sy’n cadarnhau cyfraddau gollyngiad hyd at <1.0×10−9mbar ⋅l/s .
  • Dogfenanso Cynlluniau Cyflawn : Dilyniadol â ISO 9001, sy’n darparu tystysgrifau profi materion EN 10204 3.1 llawn, diagramau profi gollyngiad helium 100%, scaniau profilometr am gribllygder arwyneb, a phacio mewn ystafell lân.

Modern semiconductor cleanroom wafer fabrication facility with vacuum process chambers


Casgliad

Mae castings pellennau cyfarwyddiadau gwrthdrawiad uchel a semicondor yn gweithio ar y fronter atom-sensitif o gynhyrchu technoleg uchel. Mae angen metallwrgaeth stáinléir is-garbon ultra-clir (CF3M / 316L VIM), croesiad buddsoddi heb boriau, peiriannu CNC uniongyrchol o feini gwaelod CF, polisio trydanol ( R a ≤0.2µm ) a sicrhau bod y pellennau'n cau'n llwyr i heliwm gan ddefnyddio spectromedr mas o heliwm. <10−9mbar ⋅l/s ).

Mae cydweithio â chwmni sydd wedi profi mewn croesiad gwrthdrawiad a pheriannu uniongyrchol sydd wedi'i integru'n llawn yn sicrhau bod eich pellennau proses gwrthdrawiad a semicondor yn taro i lawr yn gynt, yn cynnal gwrthdrawiad dyfnach, ac yn darparu cynhyrchiant tafledd heb anghydwedd.

Cysylltwch â Dandong City Pengxin Machinery Co., Ltd. i anfon eich trawstluniau pellennau gwrthdrawiad neu gofyn am ddata tystiolaeth cadarnhad gwrthdrawiad heliwm.

Dandong City Pengxin Machinery Co., Ltd. — Castiadau Trwm a Phrosesu Precisiwn, Ers 1958.