Gach Catagóir

Castáilí Leathraicí le Hálainn Ard-vaicim agus le hUirlisí Saineolais: Stáinléarcaí an-ghlan (CF3M / 316L VIM), tiuclacht le heitiléan ( < 10 − 9 mbar ⋅ l/s <10 −9 mbar⋅l/s), agus leictre-ghloineáil

2026-10-12 21:03:16
Castáilí Leathraicí le Hálainn Ard-vaicim agus le hUirlisí Saineolais: Stáinléarcaí an-ghlan (CF3M / 316L VIM), tiuclacht le heitiléan ( < 10 − 9 mbar ⋅ l/s <10 −9 mbar⋅l/s), agus leictre-ghloineáil

Meta Description: Treoir teicniúil iomlán ar chastáilí leathraicí le hálainn ard-vaicim agus le h-uirlisí saineolais. Scrúdú stáinléarcaí íseal-charbón a mbíonn leathaithe trí thaoide vaicim (VIM) (ASTM A351 CF3M / 316L), meaisínithe CNC ar fhlaincanna CF le béal scian, braitheann speictréaméadar mais eitiléan ar bhualadh ( <10^-9 mbar*l/s), agus leictre-ghloineáil an-ghlan (Ra <=0.2 µm).


I dtionscaoiú castaí leictreonaice castaí (scagadh plasma, díolúcháin fhuaránach ceimiceacha CVD, díolúcháin bhearta aigéad ALD, ionaigh iadóin), meitilúrgeacht fuaránach, agus cruaspháirtí fisice ardfhuaránach, oibríonn seomraí fuaránach agus mionghabhálacha próiseas faoi Fuaránach Ard (HV: 10−3–10−7mbar )agus Fuaránach An-ard (UHV: 10−8–10−11mbar )réimí.

Faoin bpresúr oibre an-tanaí seo ar scála adamhach, tá castaí tráchtála caighdeánach iomlán neamhghhlactha. Tugann castaí caighdeánach le:

  • Bhainne-mhír-phoróisíocht Fhoirneach Gás-Tuairiscithe : Póiríní agus pinnphollanna tanaí ghrádúil gníomhanna mar leics fhiúnta leanúnacha, ag gabháil gásanna atmaisféaracha agus ag díshárlú fuaránach ar feadh seachtaine, ag scriosadh fuaránach bunseomra.
  • Díshárlú ar an bhfuinneog & Contamainiú Hidreacarbón : Tá an t-éadach uaireanta ar aghaidh an-ard ( R a >1.6µm ) ag soláthar limistéar iomlán an-ard don adsorption móilíneacha uisce.
  • Ionradh ceimiceach corróideach : Gásanna etching plasma bunaithe ar fhluorine, clóirín agus bromine ( NF 3,CF 4,Cl 2,HB r ) ag ionradh go tapa ar iaschurtaí neamh-mheataileacha sulfide/oxide, ag scaipeadh partaí meataileacha a chuirtear isteach ar bhuaicí siliciúim.

Teastaíonn innealtóireacht ardghanbhachtach speisialta chun intinne fholúbha vacúim an-ard a bhaint amach: leathnú Stáinléantar austenitic an-íseal charbón (ASTM A351 CF3M / Cast 316L) trí Vacuum Induction Melting (VIM) , a bhaint amach gan aon phoróg mionchraiceann trí chasadh cearmaiceach cáiliúil dílis, ag cur i bhfeidhm glanadh CNC 5-aisiúil ar ConFlat (CF) Gearr-Beartachanna Agus Greamaí O-Ring Ardfholtaithe ( R a ≤0.4µm ), ag fíorú tineas an tseal iomlán tríd Bunaithe ar DheTECTáil Leáigéil le Speictreamadóir Mhaisí Heiliúim ( <10−9mbar ⋅g/C ), agus ag soláthar críochnúcháin a bhfuil ceadúnas an seomra glan air Críochnúcháin Leictre-Polaithe Scannán ( R a ≤0.2µm ).

Tugann an treoir innealtóireachta seo anailís thar a bheith cuimsitheach ar mheatailú folctha, dearadh casta gan poraí, meaisínú CNC cruinn de bhfleiscíní UHV, prótacail detachtála leáigéil heiliúim, agus caighdeáin leictre-pholaithe seomra glain.

Precision cast ultra-clean stainless steel CF3M semiconductor vacuum chamber housing


1. Fisic an Folctha An-ard (UHV) & Meicníochtaí Dechríochta an Chambair

                     ┌──────────────────────────────────────────────┐
                     │ Ultra-High Vacuum Environment (<10^-8 mbar)  │
                     └──────────────────────┬───────────────────────┘
                                            │
        ┌───────────────────────────────────┼───────────────────────────────────┐
        ▼                                   ▼                                   ▼
┌───────────────────────────────┐ ┌───────────────────────────────┐ ┌───────────────────────────────┐
│ Virtual Leakage (Outgassing)  │ │ Corrosive Plasma Attack       │ │ Micro-Channel Through-Leakage │
│ (Trapped air/moisture in      │ │ (Halogen etch chemistry       │ │ (Through-wall interconnected  │
│  subsurface casting pores)    │ │  attacking inclusion sites)   │ │  shrinkage leaking He gas)    │
└───────────────────────────────┘ └───────────────────────────────┘ └───────────────────────────────┘
Feidhmíocht Folctha na Saineolais Réimse Brú & Ceimic Riachtanais Cháil Chriticiúil Réiteach Casta
Cúlraí CVD / ALD 10−6–10−9mbar / Silain, Orgánach Miotail Nialas a bheith ann de bhrí go bhfuil galar fíorúil; ráta asghabhála <10−10mbar ⋅g/C ⋅cm2 Stáinléim leis an gcothromóir VIM (ASTM A351 CF3M / 1.4404)
Boladh Proiseas Etch Tirim Plasma 10−3–10−6mbar /CF 4,NF 3,Cl 2plasma Niall gan aon truaillíocht pháirteach, pasiúna ceimiceach CF3M ar ardghanmhéadú + Polaíniú leictreoch an-ghlan ( R a ≤0.2µm )
Bunáin tógála fholctha ar ardphriontáil Cineál turbscannán le púmpáil fholctha Sínithe cromchinn CF le sealadh gás héiliam go hiomlán Cast CF3 / CF8M le teastas 100% le haghaidh leacaidheanna héiliam
Cuirp ocaigh le teas fholctha 10−5–10−7mbar /850°C– 1,150°C Stabilité teasa ard, díshórtáil theasa íseal Ala agus casta ina bhfuil an t-ocras teasa (316L / HK40)

2. Meitiléireacht Fholmara & Protacail Ráthúcháin an-ghlan (VIM / AOD)

Chun pocaí gáis istigh agus iompar neamh-mheitalach a bhaint a mbeidh leathscannáin fhisiciúla acu, tá castáilí an chamara fholmara faoi bhrainse Vacuum Induction Melting (VIM) nó Argon Oxygen Decarburization (AOD) :

Eilimint Meitileolaíochta Caibidlí ASTM A351 CF3M Pengxin Leibhéal Saineolais UHV Fuinneamh Innealtóireachta Fholmara Criticiúil
Carbón (C) ≤0.030% ≤0.020%(An-íseal charbón) Cosc ar thiomáint carbóna chróim i mbordláithreacha an ghráin; cosc ar ionfhabhtú idirghráin
Cróm (Cr) 17.0–21.0% 18.5–20.0% Cruthaíonn sliabh dhoimhne, féin-leigheasach Cr 2Ó 3sliabh pasiúin a chosnaíonn in aghaidh ceimiceáin plasma halóigin
Nícil (Ni) 9.0–13.0% 11.5–13.0%(Níocail Ard) Achinneann an t-aicme FCC lán-austanaití staible; laghdaíonn caoghas maighnéadach ( μ r <1.02)
Molibhán (Mo) 2.0–3.0% 2.5–2.8% An t-áilleacht ard chun coirrteáil phitithe a bheith ina gcoinne clóiríde agus halaidí i roghanna glanaithe plasma
Sulfar & Fosfar S ,P≤0.040% S ,P≤0.008%(An-chóir) Géar : Cuirim an chéad cheann de na heilimintí neamh-mheataileacha amach Mn S na sreangáin a chruthaíonn slisní folctha micreascópacha
Gáis a díothaíodh Gan Rinneadh Tuairim [H]≤1.0pPM ,  [Ó ]≤20pPM ,  [N]≤50pPM Cuirim an díshlánú gas iomlán amach le linn roghanna an fholctha an-ard a laghdú

3. Inbheáil gan phorachta agus castáil le cuaich chéaramach

Tá seomraí vacúim le haghaidh semiconductors ina bhfuil sreabhaí gás próiseas inmheánacha casta, cuaichí fuaraithe le huisce, agus roinnt fhuinneoganna amhairc optaiceacha:

┌─────────────────────────────────────────────────────────────┐
│ 1. Precision Multi-Piece Aluminum Tooling & Wax Injection   │
│    • High-stability wax patterns with zero sink marks       │
├─────────────────────────────────────────────────────────────┤
│ 2. Automated Multi-Layer Fused Silica Ceramic Shell Molding │
│    • Fine zircon flour primary face coat (Ra 1.6 µm finish) │
│    • Zero sand inclusion or ceramic spalling in mold cavity │
├─────────────────────────────────────────────────────────────┤
│ 3. Vacuum Induction Pouring with Filtered Bottom Ingate     │
│    • Melt poured directly under protective argon atmosphere │
│    • Directional progressive solidification from base up    │
├─────────────────────────────────────────────────────────────┤
│ 4. 100% Hot Isostatic Pressing (HIP Processing - Optional)  │
│    • $1,150 °C$ at $1,000\text{ bar}$ Argon pressure; collapses all  │
│      internal micro-voids, achieving 100% theoretical density│
└─────────────────────────────────────────────────────────────┘

4. Machanáil clár UHV cruinn le CNC 5-aisis

5-axis CNC machining center precision milling knife-edge CF flanges of vacuum chamber

Tá sealanna an vacúim thar a bheith airde ag brath ar dhíobháil cruinn gascóga airgid nó ar chiorcail O-rinne Viton/FFKM elastamairc:

        ┌───────────────────────────────────────────────────────┐
        │ 1. High-Vacuum Solution Annealing (1,100 °C)          │
        │ • Rapid water quench; eliminates all residual stress  │
        └──────────────────────────┬────────────────────────────┘
                                   │
                                   ▼
        ┌───────────────────────────────────────────────────────┐
        │ 2. 5-Axis CNC High-Speed Milling Center Operations    │
        │ • Precision machining of chamber internal cavities    │
        │ • Coaxiality of opposing viewport axes $\le 0.015\text{ mm}$│
        └──────────────────────────┬────────────────────────────┘
                                   │
                                   ▼
        ┌───────────────────────────────────────────────────────┐
        │ 3. ConFlat (CF) Knife-Edge & O-Ring Groove Micro-Turn │
        │ • CF flange knife-edge angle ($70^\circ \pm 0.5^\circ$) with  │
        │   sharp peak radius ($R \le 0.10\text{ mm}$)          │
        │ • O-ring dovetail groove surface roughness $Ra \le 0.4\text{ µm}$│
        └───────────────────────────────────────────────────────┘

5. Scaipeáil cheimiceach i seomra glana, pasiúnú agus polaíocht le heilictríocht (EP)

Close-up macro view looking into pristine mirror-like electro-polished internal bore of vacuum chamber

Chun rátaí asghabhála an-íseal a bhaint amach, bíonn an dromchla casta de na seomraí faoi phróiseas cruinn iolrach ceimiceach-le-hileacatra:

Machined Chamber Surface (Ra 0.8–1.6 µm)
                   │
                   ▼
┌────────────────────────────────────────────────────────┐
│ 1. Ultrasonic Degreasing & Solvent Cleaning            │
│    (Removes all CNC cutting oils and particulate matter)
└──────────────────┬─────────────────────────────────────┘
                   │
                   ▼
┌────────────────────────────────────────────────────────┐
│ 2. Nitric-Hydrofluoric Acid Pickling & Passivation     │
│    (ASTM A380 / A967: Removes free iron and oxide scale)
└──────────────────┬─────────────────────────────────────┘
                   │
                   ▼
┌────────────────────────────────────────────────────────┐
│ 3. Precision Anodic Electro-Polishing (EP) (ASTM B912) │
│    • Controlled electrochemical dissolution of peaks   │
│    • Delivers true mirror finish ($Ra \le 0.20\text{ µm}$)  │
│    • Maximizes $Cr/Fe$ surface atomic ratio ($\ge 2.0$)│
└──────────────────┬─────────────────────────────────────┘
                   │
                   ▼
┌────────────────────────────────────────────────────────┐
│ 4. Class 1,000 Cleanroom Ultra-Pure Water (UPW) Rinse  │
│    • 18 MΩ·cm deionized water rinse + clean dry pack   │
└────────────────────────────────────────────────────────┘

6. Caighdeáin tástála le speictreaméadar maise héiliúim don vacúim

Specialized helium mass spectrometer leak detection testing of vacuum chamber with sniffing probe

Fágtar tástáil le héiliúim ar gach castáil vacúim go hiomlán de réir ASTM E499 / ASME Sec V Art 10 :

Modh an triail Socrú agus caighdeán Inshiníocht agus Tuarastal Glactha
Tástáil Gás Heiliúim faoi Bholgán Brúite le 100% He ( 2.0bárr ); scanáil le scannán gás Ráta Bualctha <1.0×10−7mbar ⋅g/C ; gan aon bholgáin áitiúla
Tástáil Gás Heiliúim faoi Bholgán Dóite Díbhrúitear an seomra go <10−4mbar ; clúdach héiliam Ráta Imlíne Domhanda <1.0×10−9mbar ⋅g/C
Fíorú Ráta Amach-ghasúcháin Speactroscóip Teirmheach Díshlánaithe (TDS) Ráta amach-ghasúcháin ≤1.0×10−10mbar ⋅g/C ⋅cm2tar éis 150°C bake-out
Uscrúdú Ráidiach (RT) ASTM E446 Leibhéal 1 (Niall Míocháin) scannáil radaigreafach 100% ar na ballaí go léir agus ar na pointí crosta
Próifíleachas Caolúcháin an Aghaidh Próifíleoir 3T Optúil Gan Teagmháil Aghaidheanna istigh le haghaidh leictre-ghloineála R a ≤0.20µm /R z ≤1.0µm

7. Castáil Vacúim Leictreonach i gCuideachta Inneallacht Chathair Dandong Pengxin

Tá tarrtháil castáilí vacúim ar ardshaothar agus castáilí do thionscadal leictreonach ag teastáil ó chumascadh an-ghlan, siopaí castála infheistíochta cruinn, láranna mearcair 5-ais, agus tástáil le héiliam a dhéanann an chuideachta féin.

Dandong City Pengxin Machinery Co., Ltd. cuireann sé castáilí crua-chaibidil iomlána de chuid an vacúim agus an tionscadail leictreonach ar fáil:

  • Meitileoirgeacht An-ghlan : Tá táirgeacht dearbhaithe ar chastaíl a bhfuil vacúim air agus atá i gcomhréir leis an gceartún ASTM A351 CF3M, CF3, CF8M (316L/304L castáilte), le carbón an-íseal ( C≤0.020%) agus Sulfar ( S ≤0.008%).
  • Tionchar Réadúil & Caisteáil an Chuirp : Caisteáil chéirimeach le scannán ard-cháilíochta a sholáthraíonn cruthanna atá near-net le haghaidh casta glan agus gan aon phoróisín mhicre-ghhréine.
  • Caisteáil CNC 5-Aisí ar Fhlainc : Lárionaid caisteála CNC faoi smacht aeráide dírithe a sholáthraíonn oirdí CF réadúla agus gualainn O-ring laistigh de ±0.010mm .
  • Tástáil Scannáin Mhaisiú Héiliúim : Córais tástála vacúim héiliúim in-house ó Pfeiffer agus Inficon a dheimhíonn rátaí leiceála síos go dtí <1.0×10−9mbar ⋅g/C .
  • Doiciméadú Iomlán Cualachta : Díolta de réir ISO 9001, ag soláthar teastais iomlána tástála ábhair EN 10204 3.1, cairteacha tástála leiceála héiliúim 100%, scanáin profiliméadar na huaireachta uaire, agus pacáil i seomra glan.

Modern semiconductor cleanroom wafer fabrication facility with vacuum process chambers


Conclúid

Tá castáilí le haghaidh ionad iomláin ar thoirbheachtaí ard-vacúim agus leictreonaicí ag obair ar an réimse is aice leis an dtionscnaimh teicneolaíochta airde. Tá gá le meitileoirgeacht stáinléidir chomh glan is is féidir le leithéidí í, gan charbón (CF3M / 316L VIM), castáil le hionad iomláin gan poraíocht, machanadh CNC cruinn ar bhuaibh CF le béal scian, polaíocht le heilictríocht ( R a ≤0.2µm ) agus dearbhú le speictreaméadar maise héiliúim go bhfuil an t-ullmhúchán sealaithe go hiomlán. <10−9mbar ⋅g/C ).

Trí pháirtíocht le cumas castála vacúim agus machanadh cruinn atá fáilte roimh an gcumhacht, cinntíonn tú go dtiocfaidh do chomhshóga próiseas leictreonaicí agus vacúim níos tapúla, go mbainfidh siad úsáid as vacúim níos doimhne, agus go dtugann siad torthaí próiseála fánaí gan bhriseadh.

Teagmháil le Dandong City Pengxin Machinery Co., Ltd. chun do thaispeántais don ullmhúchán vacúim a sheoladh nó chun sonraí dearbhaithe le héiliúim a iarraidh.

Dandong City Pengxin Machinery Co., Ltd. — Castaí trom agus machanáil cruinn, ó 1958.